47744.1 IP-ENG

Zusammenfassung

Ion Beam Sputtering of 2D materials # A new approach

Weitere Texte

Abstract

Goal of the project is to design, build and utilize a new ion beam sputtering tool for the synthesis of 2D materials such as graphene and transition metal dichalcogenides. The potential of the new developed technology and processes for a number of innovative applications will be demonstrated.

Beteiligte

Heidi Thomé

Kontaktperson

RhySearch Heidi Thomé Werdenbergstrasse 4 9471 Buchs SG CH

Projektdetails

Forschungsstelle: INNOSUISSE
Projektstatus: Abgeschlossen
Projekttyp: Forschungsprojekt
Startdatum: 2020-09-30
Enddatum: 2023-08-31
Bewilligte Gesamtkosten: CHF 281878.34
Sektion: 70 Engineering
NABS Politikbereich: Industrielle Produktivität und Technologie

Forschungsdisziplinen

T120 Systems engineering, computer technology 100.0%